在这个车间中，需要保持高度的洁净度，温度、湿度和压力都要精确控制在特定的范围内，以避免微小颗粒和环境因素对光刻过程造成影响。车间内通常配备有先进的光刻设备，如紫外曝光机等。这些设备的精度和稳定性对于在晶圆上形成精确的电路图案至关重要。
设计要求：室内温度要求22±2℃
湿度40-50%
含湿量5.8-9.3g/kg
百级洁净室区域内部气流分析
结论：
1、2级洁净室流线从FFU送风到高架地板气流呈现单向气流特性。
2、经过设备时，气流出现偏转，偏转区域几乎紧贴设备。
3、整体气流结构良好。
洁净室高架地板上方
气流偏转角度分析
结论:
（注：气流偏转角：气流的角度与竖直向下方向的夹角）
1、地板上方1m高度气流偏转角度，气流整体垂直于送风方向。百级区域未出现气流上返现象，千级部分区域存在上返现象。
2、百级区域气流偏转角度在设备及人员活动区域控制在40%以内。千级区域设备及人员活动区域偏转角度在60%左右。
3、设备及人员活动区域的气流组织都较为良好。
洁净室内部温度整体分析
结论：
1、洁净室内部气流整体在22℃-24℃之间。
2、洁净室的主体区域在22℃。发热设备处的温度较高，在24℃以内。
3、整体温控良好。
洁净室内部湿度整体分析
结论：
1、模拟了含湿量分布。
2、洁净室内部含湿量可以在较短时间内（200s左右）达到湿度传递。
3、人员活动增加湿量。
4、整体含湿量在9.06g/kg附近。
5、整体湿度良好。
结论
1、整体气流结构良好，设备＆人员附近偏转角在40°以内，非设备区域偏转角60°以内。
2、整体温度分布良好，温度除去发热源附近温度稍高约在24℃，室内绝大多数区域温度在22.5℃。
3、整体湿度分布良好，送风中的加湿效果良好，可以迅速将室内含湿量控制在9.06g/kg附近。
公司介绍
中源广科，由南京大学数学博士张麟创办于苏州，坐落于苏州昆山经济技术开发区，是一家专业打造国产自主CFD软件工具并提供气流组织模拟及微污染控制解决方案的高新技术企业。公司聚焦半导体行业，依托全球顶尖的CFD空气计算技术和经验，为客户提供气流组织整体解决方案，服务范围涵盖无尘车间、半导体生产线全过程颗粒物环境保障方案；帮助客户打造高洁净度的生产环境，优化气流组织结构，提升产品良率，降低系统能耗，以实现最高的生产效率。
中源广科，致力于成为中国半导体行业微污染控制的领军企业，实现中国CFD空气计算软件国产替代，并将中国半导体行业的微污染控制提升到国际先进水平而不懈努力。
业务介绍
